Г.В. Кулаков, А.В. Ватулин, Ю.В. Коновалов, А.А. Косауров, М.М. Перегуд и др.
8
На рис. 7 представлена микроструктура поперечного сечения фраг-
мента оболочки из сплава Э110 и результаты расчетов НДС твэлов с
компенсирующей полостью, облученных в реакторах атомных ледоко-
лов. Качественно характеры распределения тангенциальных напряже-
ний на рис. 4,
а
и 7,
а
схожи, однако уровень напряжений на рис. 7,
а
значительно ниже. На рис. 7,
а
видно, что уровень тангенциальных
напряжений по всему периметру оболочки по состоянию на конец экс-
плуатации не превышает 50 МПа, что обусловливает тангенциальную
ориентацию гидридов в оболочке. Это подтверждается результатами
послереакторных исследований, приведенными на рис. 7,
б
.
а
б
Рис. 7.
Распределение тангенциальных напряжений в оболочке из сплава
Э110 (
а
) и микроструктура фрагмента оболочки напротив впадины ком-
пенсирующей полости (травление на гидриды) (
б
)
Меньший уровень тангенциальных напряжений в оболочках из
сплава Э110 по сравнению с оболочками из сплава Э635, несмотря на
сопоставимые условия облучения, обусловлен большей скоростью
радиационной ползучести сплава Э110 по сравнению со сплавом
Э635 в рабочих условиях.
Таким образом, уровни значений тангенциальных напряжений в
оболочке из циркониевых сплавов, при которых происходит переход
