Некоторые особенности планаризации поверхности подложек изделий микро- и наносистемной техники - page 8

8
В.В. Холевин
Формула для определения соотношений
u
i
/
u
1
при распределении
1
(
R
) по закону (10) имеет вид
 
 
1
2
2
1
1
2
2
1
1
0
1
2
2
1 1
1
1 1
1
2
2
1
1 1
1
0
cos
cos
.
cos
cos
i
i
i
i
i
y
i
u
u
br a r
n
L
Ar B r
C d
m
P r
P r
br a r
n
L
Ar B r
C d
m
 
  
 
 
 
  
(14)
На рис. 5 приведены результаты расчетов распределения величин
u
i
/
u
1
вдоль радиуса подложки для различных значений параметра
L
2
.
Очевидно, что уменьшение параметра
L
2
параметрической линейной
зависимости (10) приводит к уменьшению плотности абразивной среды
от центра полировальника к периферии, величина износа уменьшается
от центра к периферии, а форма обработанной поверхности подложки
становится вогнутой.
Предложенная модель для определения скорости локального из-
носа (1) и интегральная математическая модель (2) могут быть исполь-
зованы для моделирования процессов абразивной доводки свободным
и связанным абразивом, абразивного полирования и химико-механиче-
ского полирования.
Результаты вычислительных экспериментов, проведенных с исполь-
зованием математических моделей (13, 14), позволяют сделать вывод о
возможности эффективного управления процессом методом химико-
Рис. 4.
Распределение величин
u
i
/
u
1
вдоль радиуса подложки:
ω
1
= 9,1 1/c; ω
2
= var; ρ(
R
) = ρ
0
= const
1,2,3,4,5,6,7 9,10
Powered by FlippingBook