Перспективы получения нанометровой шероховатости поверхности ионно-лучевым методом - page 6

6
Е.В. Одинокова, Ю.В. Панфилов, П.И. Юрченко
процесс распыления материалов [2]. Проведенные нами исследования
влияния энергии ионов на шероховатость обрабатываемой поверхности
дали неоднозначные результаты (рис. 5 и 6).
Из приведенных на рис. 5 и 6 гистограмм следует, что при токе раз-
ряда 100 мА и ускоряющем напряжении 2 кэВ, в зависимости от хими-
ческого состава ионного пучка и времени обработки, интегральное рас-
Рис. 4.
Профилограмма поверхности ситалловой подложки до и после трав-
ления под углом в 20° (
а
) и в 90° (
б
)
а
б
Рис. 5.
Результаты исследования шероховатости поверхности (среднестати-
стическая оценка) ситалловой подложки до обработки и после воздействия
на нее ионов аргона, падающих под углом 15° (
а
) и пучка смеси ионов аргона
и кислорода в соотношении 70/30, падающих под углом 45° (
б
), при длитель-
ности обработки от 2 до 20 мин
а б
1,2,3,4,5 7
Powered by FlippingBook