Моделирование и оптимизация технологического процесса ионно-лучевого травления - page 11

Моделирование и оптимизация технологического процесса ионно-лучевого травления
11
чает процедуру счета. Отметим, что согласно принятым обозначени-
ям функция
 
 
0
,
,
x
F t x t
t
имеет вид
 
 
 
 
 
2
0
0
1
0
1
,
,
.
x
v t
t
F t x t
t
v t
x


     
  
 

Видно, что управление
 
t
присутствует здесь лишь в сомножителе
 
 
 
1
,
v t
t
v
  
а
x

всегда меньше нуля. Этот вывод был использо-
ван при реализации алгоритма для численного решения задачи.
Результаты расчетов
ИЛТ без применения оптимального управ-
ления для углов падения ионов
0
 
(
а
) и
3
  
(
б
) и
3
 
приве-
дены на рис. 4. Глубина травления
0, 4.
H
При
0
 
граничная
Рис. 4.
Эволюция профиля маски
( , )
t x
при нулевом (
а
) и максималь-
ном (
б
) угле падения ионов
1...,2,3,4,5,6,7,8,9,10 12,13,14,15,16,17,18
Powered by FlippingBook