Моделирование и оптимизация технологического процесса ионно-лучевого травления - page 3

Моделирование и оптимизация технологического процесса ионно-лучевого травления
3
 
 
arctg
,
t
t
x

 
 
(2)
где
 
t
— угол между направлением падения ионного луча и осью
.
y
Будем считать
 
t
управлением, на которое наложены есте-
ственные ограничения:
 
max
0
.
t
   
(3)
В случае вращения в трехмерном пространстве уравнение ИЛТ
имеет вид (1), а формула для угла
будет следующей:
 
 
 
 
 
2
cos
, sin sin
cos
,
1
,
x
x
t
x t
t
t
t
x t
  
 
 
 
(2
)
где
— угловая скорость вращения маски [6–8].
Отметим, что рабочий слой при этом также распыляется, ско-
рость распыления зависит от угла между направлением ионного луча
и нормалью к поверхности и имеет вид, аналогичный функции
 
.
v
Обозначим эту функцию через
 
1
v
и будем считать, что процесс
травления прекращается, когда рабочий слой протравлен на глубину
h
. Нас будет интересовать скорость продвижения пограничной
(между защитной маской и рабочим слоем) точки
0
x
влево (рис. 2).
Рис. 2.
Схема продвижения точки
0
x
влево в результате ИЛТ
Несложно заметить, что
0
sin ,
x v t
   
0
arctg
,
d
dx

 
откуда
1,2 4,5,6,7,8,9,10,11,12,13,...18
Powered by FlippingBook