Моделирование и оптимизация технологического процесса ионно-лучевого травления - page 2

А.А. Гурченков, Л.А. Муравей, А.М. Романенков
2
Задачу оптимального управления процессом ионно-лучевого
травления (ИЛТ) для минимизации ухода геометрических размеров
вытравливаемых элементов решают путем изменения угла падения
ионного луча относительно мишени (метод ИЛТ). Одним из пре-
имуществ метода ИЛТ является наличие достаточно точной матема-
тической модели, описывающей эволюцию процесса. Характер изме-
нения поверхности произвольной формы в процессе ионной бомбар-
дировки описывается уравнением
   
 
2
,
1
,
0,
t
x
t x v
t x
     
(1)
где
 
,
t x
— высота стравливаемой формы в момент времени
t
в
положении
 
;
x v
— скорость ионного распыления материала, ко-
торая зависит от угла ,
образованного лучом падения ионов и нор-
малью к распыляемой поверхности.
В частности, если пучок ионов перпендикулярен оси ,
x
то
 
arctg , .
t x
x

 
Характерной особенностью всех существующих
резистов является немонотонность функции
 
,
v
т. е. существова-
ние некоторого угла
,
  
при котором функция
 
v
максималь-
на. Как правило, функцию
 
v
определяют экспериментальным пу-
тем, а ее вид аналогичен изображенному на рис. 1. Если
4 ,
  
то
функцию
 
v
с достаточно большой степенью точности можно ап-
проксимировать выражением
 
2
1 2sin cos .
v
    
Рис. 1.
Скорость ионного распыления материала
Направление пучка ионов с течением времени может изменяться.
Тогда угол
можно представить в следующем виде:



v

1 3,4,5,6,7,8,9,10,11,12,...18
Powered by FlippingBook